铁铬电阻带的氧化全过程按照它的氧化速度可以分成下面三个阶段：

第一阶段为：氧化膜生成阶段。在早期阶段，合金被迅速氧化。当氧化速率较大时，氧化速率逐渐减慢。当在表面上生成连续的氧化膜时，氧化速率再次减慢，氧化进入第二阶段。

在此阶段，氧化速率与时间的关系是离散系统，氧化膜是层状结构。

在生成氧化膜、铯、硅的早期阶段，合金中的铬和其他易氧化元素与氧迅速熔合，生成相应的氧化物，这些氧化物附着在合金表面，并生成连续的氧化膜。同时，合金中的铝、硅和铬等元素扩散到表面并聚集在新的氧化膜下，第二阶段是氧化膜的稳定阶段。当在合金表面形成连续的氧化膜时，氧气渗入合金的速率再次降低。此时，根据氧化膜和膜下积累的合金元素，仍有少量氧气可产生氧化反应，从而形成内部氧化层。

在此阶段，合金氧化速度非常缓慢。经过长时间的高温作用后，氧化膜的相对密度增加，薄厚，合金的氧化与时间成线性关系氧化膜稳定阶段时间越长，合金的使用寿命越好

最后，第三阶段为：氧化膜破坏阶段。当合金内部氧化的发展趋势达到一定程度时，氧化膜逐渐产生裂纹，使大量氧气进入合金，铁、铝、硅、铬等大分子元素被氧化，大大提高了氧化速度。同时，氧化膜逐渐产生大的裂纹，造成损伤。