高温电阻带的氧化全过程氧化膜破坏阶段

(1)氧化膜生成阶段。早期合金迅速氧化，氧化速率较高后，氧化速率逐渐降低。当表面形成连续氧化膜时，氧化速率再次下降，氧化进入第二阶段。这里，氧化速率与时间的相关性是离散系统，氧化膜是“层状结构”。在氧化膜形成的早期，合金中的铯、硅、铬等可氧化元素迅速与氧融合生成相应的氧化物，这些氧化物附着在合金表面，形成连续的氧化膜。同时，合金中的铝、硅、铬等元素扩散到表面，聚集在新的氧化膜下。

(2)氧化膜稳定阶段。当在合金表面形成连续的氧化膜时，氧向合金中的渗透速率再次降低。此时，根据氧化膜和聚集在膜下的合金元素，仍有少量的氧气可以发生氧化反应，产生内部氧化层。在这个阶段，合金以相对较慢的速度被氧化。长期高温功效后，氧化膜的相对密度和厚度增加，复合氧化与时间呈线性关系。氧化膜成为内外双层结构。

(3)氧化膜破坏阶段。当合金内部氧化的发展趋势达到一定程度时，氧化膜逐渐产生裂纹&裂纹的发生使大量氧气进入合金，铁、铝、硅、铬被氧化，促使氧化速度大大提高。同时，氧化膜中逐渐出现裂纹，最终导致破坏。总的来说，阻带的整个氧化过程反映了电热材料的整个破坏过程。5.如何生成具有维持效果的氧化膜，发展合金的稳定氧化阶段，对于提高高温电阻带/的使用周期具有关键的现实意义。