电阻带的整个氧化过程

电阻带的整个高温氧化过程按其氧化速率可分为三个阶段:氧化膜生成阶段；氧化的稳定阶段；氧化膜破坏阶段

(1)氧化膜生成阶段。在前期，化合物被快速氧化，氧化速率较高后，氧化速率逐渐变慢。a当表面形成连续的氧化膜时，氧化速度再次变慢，氧化进入二阶段。在这个阶段，氧化速率与时间的关系是离散系统，氧化膜是涂层结构。在氧化膜形成的初期，合金中的铯、硅、铬等易被氧化的元素迅速与氧融合，生成相应的氧化物，附着在合金表面，产生连续的氧化膜。同时，合金中的铝、硅、镁等元素扩散到表面，聚集在新的氧化膜下。

(2)氧化膜稳定阶段。当形成连续的氧化膜时，氧渗入合金的速度再次降低。此时仍有少量的氧气可以根据氧化膜和聚集在膜下的合金元素发生氧化反应，生成的内氧化层在这里氧化速度较慢。长期高温作用后，氧化膜的相对密度增加，厚度增加，合金的氧化与时间成线性关系。g.氧化膜成为内外双层结构。

(3)氧化膜破坏阶段。当合金中氧化的发展趋势达到程度时，氧化膜逐渐引起裂纹&裂纹使大量氧气进入合金，铁、铝、硅、铬等大量元素被氧化，大大提高了氧化速率。同时，氧化膜逐渐开裂，终造成损伤。

电阻带的整个氧化过程反映了电热材料破坏的全过程。5如何制造出具有保养效果的氧化膜，发展趋势。合金的稳定氧化阶段对延长电阻带的使用周期具有重要的现实意义。